Перейти до вмісту

Файл:High-k.svg

Вміст сторінки не підтримується іншими мовами.
Матеріал з Вікіпедії — вільної енциклопедії.

Повна роздільність (SVG-файл, номінально 401 × 235 пікселів, розмір файлу: 8 КБ)

Опис Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc.
Час створення 2006-01-05, 2008-01-14
Джерело File:High-k.png
Автор en:User:Anoopm, traced by User:Stannered
Ліцензія
(Повторне використання цього файлу)
Anoopm з англійської Вікіпедії, власник авторських прав на цей твір, добровільно публікує його на умовах такої ліцензії:
w:uk:Creative Commons
зазначення авторства поширення на тих же умовах 		Цей файл ліцензований на умовах ліцензії Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unported Можна вживати додаткові обмеження.
Зазначення авторства: Anoopm з англійської Вікіпедії
Ви можете вільно:
  • ділитися – копіювати, поширювати і передавати твір
  • модифікувати – переробляти твір
При дотриманні таких умов:
  • зазначення авторства – Ви повинні вказати авторство, надати посилання на ліцензію і вказати, чи якісь зміни було внесено до оригінального твору. Ви можете зробити це в будь-який розсудливий спосіб, але так, щоб він жодним чином не натякав на те, наче ліцензіар підтримує Вас чи Ваш спосіб використання твору.
  • поширення на тих же умовах – Якщо ви змінюєте, перетворюєте або створюєте іншу похідну роботу на основі цього твору, ви можете поширювати отриманий у результаті твір тільки на умовах такої ж або сумісної ліцензії.
Цей шаблон ліцензування був доданий до файлу в рамках оновлення ліцензії GFDL.
GNU head Дозволяється копіювати, розповсюджувати та/або модифікувати цей документ на умовах ліцензії GNU FDL версії 1.2 або більш пізньої, виданої Фондом вільного програмного забезпечення, без незмінних розділів, без текстів, які розміщені на першій та останній обкладинці. Копія ліцензії знаходиться у розділі GNU Free Documentation License. Можна вживати додаткові обмеження.
Інші версії

Похідні роботи від цього файлу:  Common SiO2 vs high-k gate stack (DE).svg

File:High-k.png

Підписи

Додайте однорядкове пояснення, що саме репрезентує цей файл

Об'єкти, показані на цьому файлі

зображує

Історія файлу

Клацніть на дату/час, щоб переглянути, як тоді виглядав файл.

Дата/часМініатюраРозмір об'єктаКористувачКоментар
поточний18:14, 14 січня 2008Мініатюра для версії від 18:14, 14 січня 2008401 × 235 (8 КБ)Stannered{{Information |Description=Comparison of high-k dielectric structure with conventional silicon dioxide gate dielectric. Schematic is my graphical representation of an idea in the presentation by G. E. Moore, Intel Inc. |Source=en:Image:High-k.png |Da

Така сторінка використовує цей файл:

Глобальне використання файлу

Цей файл використовують такі інші вікі:

Отримано з https://uk.wikipedia.org/wiki/Файл:High-k.svg